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半导体加工废水怎么处理方法|半导体加工废水处理案例

工作背静 该封裝试验厂属于粤港澳大湾区形城市,其主要生产加工BGA、QFP等ibms电路板封裝物品。随着时间推移产能分析壮大,固有生产废水除理方法正确解决体统超热负荷运营,且尚未有效率正确解决添加的含氰生产废水除理方法。建设项目开始投资1200万多开始改建,装修设计正确解决的能力800吨/日。 污废水 化学物质及渠道 含氰废渣:主轴电镀环节会产生,氰化物溶度30-50mg/L; 高高锰酸盐指数污水:位于电化学镀工艺流程,高锰酸盐指数氧化还原电位300-500mg/L; 生物碳质废污水:打包封装素材拆洗引发,含环氧防锈漆不饱和树脂等生物碳质物; 酸碱度废水处理:各工步难以清理水相溶而成。 工作生产技术具体流程 变革后的软件选取"化学预补救+生化学补救+高級氧化物"的工艺路径: 含氰废污水进行处理: 碱性食物氯化法:分五级破氰,第一钝化ORP把握在300-350mV,五级钝化ORP>600mV; 线上污染监测:随时管控余氯和氰化物溶度。 高化学需氧量废水解决解决: 吹脱塔预净化处理:pH调至11,气水比3000:1,氟化物出掉率70%; 短程硝化反应反应反硝化反应反应:把握DO在0.5mg/L以內,节约使用碳源25%。 综合管理办理系统的: 电离碱化池:延长工业废水可生物化性; 接觸阳极氧化池:组合名字填充料,气水比15:1; 有效率发展池:斜管规整填料,面上负荷量1.0m³/(㎡·h)。 层次进行处理单园: Fenton腐蚀:H2O2加药系统量200mg/L,Fe²⁺80mg/L; 海洋生物生物炭滤池:进步骤的还原COD和碱度。 最后效果好 整改后控制系统作业不稳定性,满水后COD<40mg/L、氧化还原电位<5mg/L、总氰化物<0.2mg/L,多种技术指标好于部分排放出标准规定。吨水工作成本低从曾经的11.3元降下来9.3元,年作业成本业绩约56万元。废水引起量少30%,危险废物处理成本相关拉低。

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