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半导体含氟废水怎么处理方法|半导体含氟废水处理案例

业务大环境 该单位专业性生产方式半导体材料用高纯氟化氢和六氟化钨,电镀废水氟氧化还原电位很好且的成分非常复杂。原本处工院艺特效不相对稳定,氟化物尾气排放不时超量。大型项目项目投建2300万元投建专门针对外理油烟净化器,设定外理工作能力500吨/天。 废水处理方法组成成分及特征 废污水具体来源于出产设施除垢和有机废气清洗: 氟铝离子酸度:1500-3500mg/L 含硫酸钠根铝离子:2000-5000mg/L pH值:1- 含氢化物发生器钨、钼等金属材质稀有元素 净化处理施工工艺方法 重要性高溶液浓度特质,选择"采和+三级沉淀出的+膜补救"的工艺: 污废水 处理工艺采集池:总类采集多种渗透压污废水 处理工艺 中合体现池:分第一阶段添加氢防氧化的钠和氢防氧化的钙,调整然后pH至7.5-8. 二沉池反應池:加药PAC和PAM增強积淀结果 斜管积累池:高效化固液离心分离 多物质滤出器:去掉很细微颗粒状 超滤性程序:层次脱盐和除氟 淤泥浓缩提炼脱水处理现象设备:抽滤脱水处理现象后淤泥运输技术应对 手机在线评估控制系统:实时视频监控摄像头氟化合物溶度和pH值 最后效用 补救设备执行数据报告: 手表进水氟阴阳离子差不多含量:2800mg/L 满水后氟阴离子酸度:3.2mg/L(平均水平) 氟清掉率:99.9%上文 水造纸废水处理率:满足65% 系统的重新化阶段高,构建污水操作生产成本大幅度降低30%,年再利用氟化钙副服务约400吨。

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