半导体含氟废水怎么处理方法|半导体含氟废水处理案例
业务大环境
该单位专业性生产方式半导体材料用高纯氟化氢和六氟化钨,电镀废水氟氧化还原电位很好且的成分非常复杂。原本处工院艺特效不相对稳定,氟化物尾气排放不时超量。大型项目项目投建2300万元投建专门针对外理油烟净化器,设定外理工作能力500吨/天。
废水处理方法组成成分及特征
废污水具体来源于出产设施除垢和有机废气清洗:
氟铝离子酸度:1500-3500mg/L
含硫酸钠根铝离子:2000-5000mg/L
pH值:1-
含氢化物发生器钨、钼等金属材质稀有元素
净化处理施工工艺方法
重要性高溶液浓度特质,选择"采和+三级沉淀出的+膜补救"的工艺:
污废水 处理工艺采集池:总类采集多种渗透压污废水 处理工艺
中合体现池:分第一阶段添加氢防氧化的钠和氢防氧化的钙,调整然后pH至7.5-8.
二沉池反應池:加药PAC和PAM增強积淀结果
斜管积累池:高效化固液离心分离
多物质滤出器:去掉很细微颗粒状
超滤性程序:层次脱盐和除氟
淤泥浓缩提炼脱水处理现象设备:抽滤脱水处理现象后淤泥运输技术应对
手机在线评估控制系统:实时视频监控摄像头氟化合物溶度和pH值
最后效用
补救设备执行数据报告:
手表进水氟阴阳离子差不多含量:2800mg/L
满水后氟阴离子酸度:3.2mg/L(平均水平)
氟清掉率:99.9%上文
水造纸废水处理率:满足65%
系统的重新化阶段高,构建污水操作生产成本大幅度降低30%,年再利用氟化钙副服务约400吨。