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半导体含氟废水处理案例|半导体含氟废水处理方法

工程项目经验 该光电器件的生产制造公司企业地处华东的地方的地方,常见的生产集成型控制电路心片,日减排含氟工业化工废水约800吨。主要是因为当地政府环保条件条件增长,原先的工作设备没办法无法氟化物减排质量浓度底于5mg/L的新需求,公司企业加盟1捌佰元新健技术含氟工业化工废水工作系统。 废液物质及起源 电镀废水重要由来于心片研制时候中的刻蚀生产加工过程和洁净生产加工过程,重要水污染物质包扩: 氟阳离子氨水浓度:300-800mg/L pH值:2- 包含有几瓶硅酸盐、磷酸 氢化物发生器巨资属如铜、镍等 解决制作工艺程序 适用"前加工+生物学积累+深入加工"搭档加工: 调理池:匀衡水硬度发电量,快速设置pH优酷云监测站 1阶段想法池:污泥脱水氢腐蚀钙,有效控制pH至7-8,组成氟化钙发展 一个悠长岁月中池:悠长岁月中剥离 氟化钙废水 二次表现池:添加氯化钙和缩聚氯化铝,进步骤消除残渣氟阳离子 下级滤渣池:2次滤渣隔离 砂滤机系统:剔除浮悬物 活性氧炭气体吸附:清掉有机化合物物和微量分析血本属 污水补救控制系统:板框压滤烘干,污水含水量率下降60%低于 最终能够感觉 体统自动运行固定后,有水出饮用水: 氟阳离子氨水浓度:2.1-3.8mg/L pH值:6.5-7. SS<5mg/L 高价属含碳量均达不到查出限 齐全提供《光电工业品水废弃物物废气的标准》(GB39731-2020)规范要求,一年下降氟化物废气约180吨。

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